Informaçao sobre o Autor
Жигулин, Д. В.
| Edição | Seção | Título | Arquivo |
| Volume 54, Nº 4 (2025) | TECHNOLOGIES | Effect of rapid thermal annealing on the formation of aluminum-silicon and aluminum-polysilicon ohmic contacts in integrated microcircuits |
Usuário
Informações
Assinatura
Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave
Förster effect
bipolar transistor
diagnostics
etching
gas temperature
ionization
kinetics
magnetron sputtering
mechanism
memristor
modeling
molecular beam epitaxy
plasma
polymerization
powerful LDMOS
quantum dot
reduced electric field strength
resistive switching
silicon
silicon-on-insulator technology
specific power
Edição corrente
Volume 54, Nº 4 (2025)
×
Usuário
Informações
Assinatura
Entrar no sistema para verificar sua assinatura
Palavras-chave
Förster effect
bipolar transistor
diagnostics
etching
gas temperature
ionization
kinetics
magnetron sputtering
mechanism
memristor
modeling
molecular beam epitaxy
plasma
polymerization
powerful LDMOS
quantum dot
reduced electric field strength
resistive switching
silicon
silicon-on-insulator technology
specific power
Edição corrente